單項(xiàng)選擇題HMDA裝置使用的瓶裝LiOH規(guī)格為（）g/瓶。
A.500
B.1000
C.250
D.1500
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置反應(yīng)釜加堿的目的為改良催化劑的選擇性，降低（）含量。
A.反反體
B.仲胺
C.H6MDA
D.無(wú)變化
2.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置反應(yīng)釜投料量THF5t，MDA7t，THF含水量0.9試問(wèn)本次需加水量（）
A.15
B.20
C.10
D.18
3.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置反沖洗的四通閥對(duì)應(yīng)的設(shè)置開(kāi)度為50%時(shí)，對(duì)應(yīng)反沖洗方向?yàn)椋ǎ?/a>
A.R-A001-1
B.R-A001-2
C.R-A002
D.R-A001-4
4.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置反沖洗的四通閥對(duì)應(yīng)的設(shè)置開(kāi)度為75時(shí)，對(duì)應(yīng)反沖洗方向?yàn)椋ǎ?/a>
A.R-A001-1
B.R-A001-2
C.R-A001-3
D.R-A001-4
5.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置反沖洗的四通閥對(duì)應(yīng)的設(shè)置開(kāi)度分別有（）
A.0，25，50，75
B.25，50，75，100
C.50，75，100
D.25，50，100
最新試題
簡(jiǎn)述C-A002自身相關(guān)聯(lián)的連鎖。
題型：?jiǎn)柎痤}
為保護(hù)真空機(jī)組及精餾系統(tǒng)的安全穩(wěn)定，設(shè)置真空機(jī)組的連鎖有哪些？
題型：?jiǎn)柎痤}
反應(yīng)釜為什么加減操作后需要進(jìn)行氮?dú)庵脫Q。
題型：?jiǎn)柎痤}
C-A003在做粗產(chǎn)品精餾的過(guò)程中，儀表室發(fā)現(xiàn)TI-A010溫度高報(bào)警，SV-A010，AV-A111自動(dòng)閥門(mén)關(guān)閉，其他設(shè)備運(yùn)行正常，解釋導(dǎo)致此現(xiàn)象的原因及處理方法？
題型：?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)用分子結(jié)構(gòu)式寫(xiě)出MDA加氫反應(yīng)生產(chǎn)HMDA的化學(xué)方程式。
題型：?jiǎn)柎痤}
試比較F-A001-1與F-A001-4的區(qū)別。
題型：?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)寫(xiě)出氮封系統(tǒng)主要哪些部分組成？
題型：?jiǎn)柎痤}
簡(jiǎn)述B-A003啟動(dòng)與停止的步驟。
題型：?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)簡(jiǎn)述THF投料現(xiàn)場(chǎng)操作？
題型：?jiǎn)柎痤}
簡(jiǎn)述降膜蒸發(fā)器的工作原理。
題型：?jiǎn)柎痤}