多項(xiàng)選擇題HMDA裝置取出催化劑循環(huán)時(shí)的路徑為（）取出催化劑位置為（）

A.R-A001-4經(jīng)F-A001-5至D-A022至R-A001-4
B.R-A001-4經(jīng)F-A001-4至D-A022至R-A001-4
C.過(guò)濾器底部盲法蘭處
D.F-A002-3濾布處


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1.多項(xiàng)選擇題HMDA裝置F-A001-5中所使用的氮?dú)鈮号艍毫椋ǎ┣医?jīng)過(guò)氮?dú)獾腟V閥位號(hào)為（）

A.0.2MPa，SV-A032-6
B.0.2MPa，SV-A032-7
C.0.4MPa，SV-A032-7
D.0.4MPa，SV-A032-6

2.多項(xiàng)選擇題HMDA裝置F-A001-5向F-A001-3過(guò)濾時(shí)所經(jīng)過(guò)的SV閥有（）

A.SV-A039-5
B.SV-A039-6
C.SV-A039-7
D.SV-A039-9

3.多項(xiàng)選擇題HMDA裝置F-A001-5過(guò)濾器的主要作用是（）

A.過(guò)濾
B.分離
C.洗滌
D.排渣

4.多項(xiàng)選擇題F-A001/2/3與F-A001-4過(guò)濾器精度分別為（）

A.0.5um
B.1um
C.3um
D.0.8um

5.多項(xiàng)選擇題下列各項(xiàng)敘述正確的為（）

A.蒸餾塔內(nèi)操作溫度由塔頂至塔底逐漸降低
B.蒸餾塔內(nèi)輕組分含量由塔頂至塔底逐漸降低
C.蒸餾塔內(nèi)輕組分含量由塔頂至塔底逐漸升高
D.蒸餾塔內(nèi)重組分含量由塔頂至塔底逐漸降低
E.蒸餾塔內(nèi)重組分含量由塔頂至塔底逐漸升高