碳四裝置再生過(guò)程中需要（）介質(zhì)進(jìn)行再生操作。

碳四裝置反應(yīng)器原料來(lái)自于（）

碳四裝置再生溫度超高的因素有（）

碳四裝置催化劑再生前需要對(duì)待再生反應(yīng)系統(tǒng)做（）

脫乙烷塔循環(huán)建立時(shí)，塔頂冷卻器循環(huán)水開(kāi)的過(guò)大，會(huì)出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

氣分裝置地下水罐的冷凝水來(lái)自于（）

碳四裝置再生系統(tǒng)再生前必須確定（）是合格的。

氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

萃取裝置進(jìn)料量增大后，操作上應(yīng)采?。ǎ┐胧?。

氣體分餾裝置處理量超負(fù)荷生產(chǎn)時(shí)，操作上注意事項(xiàng)以下哪些是正確的（）