A、硫化物
B、氧化物
C、氮化物
D、金屬
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A、20ppm
B、30ppm
C、40ppm
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最新試題
鍋爐系統(tǒng)生產(chǎn)時(shí)汽包出現(xiàn)虛假液位主要是由給水量與蒸汽量之間的物料平衡關(guān)系破壞所引起的。
往復(fù)式單作用壓縮機(jī)內(nèi)部主要潤滑部位是汽缸壁、()與活塞。
反應(yīng)器內(nèi)構(gòu)件主要有哪些?
鍋爐系統(tǒng)中,連續(xù)排污也叫表面排污,其作用主要是排出爐水中的固體雜質(zhì)和松散的水渣。
集散控制系統(tǒng)又稱分散控制系統(tǒng),它是以微型計(jì)算機(jī)為基礎(chǔ)的,將顯示操作部分高度集中,而將控制部分分散的一種控制系統(tǒng)。
為防止加氫反應(yīng)器氫脆的發(fā)生,裝置停工時(shí)冷卻速度不應(yīng)過快,并且停工過程中應(yīng)有釋氫的工藝過程。
當(dāng)鍋爐系統(tǒng)爐水的堿度低于規(guī)定指標(biāo)時(shí),應(yīng)適當(dāng)減少連續(xù)排污量,相反,當(dāng)鍋爐系統(tǒng)爐水的堿度高于規(guī)定指標(biāo)時(shí),應(yīng)適當(dāng)增加連續(xù)排污量。
鍋爐汽包液位調(diào)節(jié)采用三沖量控制主要是為了防止虛假液位的發(fā)生。
原料預(yù)熱爐點(diǎn)火前,要采樣做測(cè)爆分析合格,采樣的部位是()
管式轉(zhuǎn)化爐是以輕烴為原料,用蒸汽轉(zhuǎn)化法生產(chǎn)氫氣或合成氨原料的一種加熱爐。其輻射段是原料氣在轉(zhuǎn)化管內(nèi)進(jìn)行轉(zhuǎn)化的反應(yīng)部分,管外由燃料供熱;對(duì)流段是高溫?zé)煔獾挠酂峄厥詹糠帧?/p>