A、注硫量達(dá)到理論注硫量
B、循環(huán)氫中硫化氫含量大于1%且有上升趨勢(shì)
C、高分無明水生成
D、反應(yīng)溫升大于40℃
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A、還需提高溫度
B、硫化結(jié)束
C、注硫量偏低
D、循環(huán)氫流量偏低
A、為防止催化劑發(fā)生氫還原，引氫進(jìn)裝置時(shí)床層最高點(diǎn)溫度應(yīng)低于150℃
B、硫化反應(yīng)是吸熱反應(yīng)
C、硫化溫度大于230℃后，循環(huán)氫中硫化氫含量大于1％（VOL）時(shí)，適當(dāng)減少硫化劑注入量
D、在H2S未穿透催化劑床層前，床層最高點(diǎn)溫度不應(yīng)超過230℃
A、控制注硫量
B、控制硫化溫度
C、排尾氫
D、控制循環(huán)氫循環(huán)量
A、自燃點(diǎn)高
B、自燃點(diǎn)低
C、閃點(diǎn)高
D、閃點(diǎn)低
最新試題
關(guān)于加熱爐爐管破裂著火事故的處理，下列選項(xiàng)錯(cuò)誤的是（）
若加氫裝置補(bǔ)充氫短時(shí)中斷，則下述處理步驟錯(cuò)誤的是（）
事故狀態(tài)下，分餾系統(tǒng)改走短循環(huán)流程的目的是（）
關(guān)于加熱爐爐管破裂著火事故的處理，下列選項(xiàng)錯(cuò)誤的是（）
下列選項(xiàng)中，不可以采用重復(fù)結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)化畫法進(jìn)行表達(dá)的是（）
在設(shè)備圖中，對(duì)于填充物的尺寸標(biāo)注，一般不含（）
反應(yīng)系統(tǒng)停工降溫時(shí)要分析循環(huán)氫中的一氧化碳，目的是（）
對(duì)于常見設(shè)備結(jié)構(gòu)的尺寸標(biāo)注，以下敘述錯(cuò)誤的是（）
關(guān)于設(shè)備布置圖中設(shè)備的標(biāo)高，以下選項(xiàng)錯(cuò)誤的是（）
關(guān)于加熱爐回彎頭漏油著火的處理，下列選項(xiàng)錯(cuò)誤的是（）