二次波檢測(cè)是一種特殊的檢測(cè)工藝，以下關(guān)于二次波檢測(cè)的做敘述，哪一條是錯(cuò)誤的（）

在筒身外壁做曲面周向探傷時(shí)（r、R為簡(jiǎn)體的內(nèi)、外徑），斜探頭（β為折射角）的臨界角應(yīng)滿足（）

底片的最佳黑度值與觀片燈的亮度有關(guān)，觀片燈亮度改變，最佳黑度值也將改變。

底片清晰度與增感屏顆粒度的關(guān)系是（）

對(duì)于鉬靶X射線管，在管電壓低于（）千伏時(shí)是不會(huì)產(chǎn)生特征X射線的。

通常所謂20KV的X射線是指（）

對(duì)軸類鋼制鍛件，用2.5P14的直探頭，在圓周面上用底波作基準(zhǔn)反射而進(jìn)行靈敏度調(diào)整時(shí)，該軸鍛件的直徑至少應(yīng)大于（）

使用變型波檢測(cè)的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是（）

以下耦合劑中，可用于粗糙表面檢測(cè)的是（）

一般認(rèn)為表面波探測(cè)的有效深度約為（）