A.一項(xiàng)專利權(quán)包含多項(xiàng)發(fā)明創(chuàng)造的，專利權(quán)人可以放棄全部專利權(quán)，也可以放棄部分專利權(quán)
B.申請人在辦理授予專利權(quán)登記手續(xù)程序中，未繳納年費(fèi)的，視為放棄取得專利權(quán)
C.對于同一申請人同日（僅指申請日）對同樣的發(fā)明創(chuàng)造既申請實(shí)用新型又申請發(fā)明專利的，在先獲得授權(quán)的實(shí)用新型專利權(quán)尚未終止的，申請人若不愿修改發(fā)明專利申請避免重復(fù)授權(quán)，則應(yīng)當(dāng)提交放棄實(shí)用新型專利權(quán)的聲明
D.專利權(quán)處于質(zhì)押狀態(tài)的，未經(jīng)質(zhì)權(quán)人同意，專利權(quán)人無權(quán)放棄專利權(quán)

A.專利權(quán)授予之后，專利登記簿與專利證書上記載的內(nèi)容不一致的，以專利登記簿上記載的法律狀態(tài)為準(zhǔn)
B.專利權(quán)授予公告之后，任何人都可以向國家知識產(chǎn)權(quán)局請求出具專利登記簿副本，專利權(quán)失效的除外
C.請求出具專利登記簿副本的，應(yīng)當(dāng)提交辦理文件副本請求書并繳納相關(guān)費(fèi)用
D.國家知識產(chǎn)權(quán)局授予專利權(quán)時建立專利登記簿，授予專利權(quán)以前發(fā)生的專利申請權(quán)轉(zhuǎn)移、專利申請實(shí)施許可合同備案等事項(xiàng)均屬于專利登記簿登記的內(nèi)容

A.在中國政府主辦或者承認(rèn)的國際展覽會上首次展出的
B.在學(xué)術(shù)期刊公開發(fā)表或者規(guī)定的技術(shù)會議上首次發(fā)表的
C.他人未經(jīng)申請人同意而泄露其內(nèi)容的
D.在有明確保密要求的省以下學(xué)術(shù)會議上首次發(fā)表的

A.明顯的產(chǎn)品名稱錯誤
B.申請人在簡要說明中指定的最能表明設(shè)計要點(diǎn)的圖片或者照片明顯不恰當(dāng)
C.簡要說明中有宣傳用語
D.相似外觀設(shè)計申請，申請人在簡要說明中未指定基本設(shè)計

A.外觀設(shè)計與作品中的設(shè)計相同或者實(shí)質(zhì)相同
B.外觀設(shè)計與作品中的設(shè)計相同或者實(shí)質(zhì)性相似
C.外觀設(shè)計與作品中的設(shè)計相同或者相近似
D.外觀設(shè)計與作品中的設(shè)計相同或者無明顯區(qū)別