A.找到實(shí)際原因時(shí)修正離群值,否則予以保留
B.剔除離群值,不追加觀測(cè)值
C.剔除離群值,追加新的觀測(cè)值或適宜的插補(bǔ)替代
D.將離群值修正為樣本平均值
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A.靜態(tài)回彈彎沉
B.靜態(tài)總彎沉
C.動(dòng)態(tài)回彈彎沉
D.動(dòng)態(tài)總彎沉
A.靜態(tài)回彈彎沉
B.靜態(tài)總彎沉
C.動(dòng)態(tài)回彈彎沉
D.動(dòng)態(tài)總彎沉
A.48
B.47
C.46
D.45
A.量砂較容易嵌入路表紋理中
B.量砂比規(guī)范要求的細(xì)
C.檢測(cè)出的構(gòu)造深度小于實(shí)際值
D.攤鋪的圓直徑比標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下小
A.干燥
B.使用
C.高溫
D.潮濕
最新試題
X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對(duì)需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注,確保定位準(zhǔn)確。
對(duì)焊接接頭穩(wěn)定時(shí)間有規(guī)定的產(chǎn)品,工藝規(guī)程應(yīng)作出規(guī)定,檢驗(yàn)監(jiān)控確認(rèn),檢驗(yàn)蓋章時(shí)穩(wěn)定時(shí)間不足者應(yīng)在申請(qǐng)單注明穩(wěn)定時(shí)間節(jié)點(diǎn),否則X光室視為穩(wěn)定時(shí)間符合要求。
一次完整的兩面多層補(bǔ)焊,當(dāng)正面打底層質(zhì)量進(jìn)行過(guò)一次X射線檢測(cè),若反面還需打底,則無(wú)需X射線檢測(cè)。
焊接工藝處理超標(biāo)缺陷必須閱片的主要目的是()。
底片圖像質(zhì)量參數(shù)中的顆粒度與膠片的粒度是同一概念。
射線檢測(cè)最有害的危險(xiǎn)源是(),必須嚴(yán)加控制。
點(diǎn)焊未熔合、脫焊等面狀缺陷最有效的檢測(cè)方法是X射線檢測(cè)。
在射線照相檢驗(yàn)中,隨著射線能量的提高,得到的圖像不清晰度也將增大。
送檢產(chǎn)品工序狀態(tài)及表面質(zhì)量應(yīng)符合工藝規(guī)程或工藝處理意見的要求,經(jīng)表面檢驗(yàn)合格,申請(qǐng)單無(wú)需檢驗(yàn)蓋章確認(rèn)。
下面給出的射線檢測(cè)基本原理中,正確的是()。