單項(xiàng)選擇題哪種因素對(duì)反射型線圈發(fā)射信號(hào)和反射信號(hào)之間的相位移沒(méi)有影響(假定零件是非鐵磁性的)?()

A.試樣的電導(dǎo)率;
B.發(fā)射信號(hào)的大??;
C.試樣的厚度;
D.試樣中存在缺陷.


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1.單項(xiàng)選擇題使用一次~二次線圈系統(tǒng)時(shí),為了抑制二次線圈中感應(yīng)的一次線圈信號(hào),可以().

A.使用一個(gè)差動(dòng)式二次線圈;
B.在感應(yīng)的信號(hào)中加一個(gè)相位差180°的信號(hào);
C.從感應(yīng)信號(hào)中減去一個(gè)同相信號(hào);
D.以上任意一種.

2.單項(xiàng)選擇題為使流過(guò)線圈的電流最大,電容器應(yīng)如何調(diào)整?()

A.使容抗等于發(fā)生器阻抗;
B.使容抗最?。?br /> C.使容抗等于感抗;
D.使容抗最大.

3.單項(xiàng)選擇題為了隔離外部的射頻場(chǎng),試驗(yàn)線圈最有效的屏蔽材料是().

A.玻璃纖維;
B.奧氏體不銹鋼;
C.銅;
D.黃銅.

5.單項(xiàng)選擇題只顯示試驗(yàn)線圈總阻抗數(shù)值變化的渦流試驗(yàn)儀器().

A.不能用來(lái)分選直徑不同、化學(xué)成分相同的鋁棒;
B.一般用來(lái)測(cè)量鑄管的壁厚變化;
C.不使用陰極射線管顯示器;
D.對(duì)尺寸變化比電導(dǎo)率的變化靈敏.

最新試題

焊接工藝處理超標(biāo)缺陷必須閱片的主要目的是()。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

二次打底焊接或重熔排除,無(wú)需辦理相關(guān)手續(xù),直接使用前次的申請(qǐng)手續(xù)。

題型:判斷題

X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對(duì)需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注,確保定位準(zhǔn)確。

題型:判斷題

一次完整的補(bǔ)焊過(guò)程中缺陷是否排除X光透照確認(rèn)可以不限次數(shù),直至缺陷完全排除。

題型:判斷題

X光檢驗(yàn)組按復(fù)查清單組織復(fù)查,并出具X光底片復(fù)查報(bào)告,復(fù)查無(wú)遺留問(wèn)題方可進(jìn)行試壓。

題型:判斷題

缺陷分類(lèi)應(yīng)符合驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)的要求,標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的缺陷或不屬于X射線照相檢驗(yàn)范疇的缺陷,必要時(shí)可予以注明供有關(guān)人員參考,但不作為合格與否判定的依據(jù)。

題型:判斷題

送檢產(chǎn)品工序狀態(tài)及表面質(zhì)量應(yīng)符合工藝規(guī)程或工藝處理意見(jiàn)的要求,經(jīng)表面檢驗(yàn)合格,申請(qǐng)單無(wú)需檢驗(yàn)蓋章確認(rèn)。

題型:判斷題

觀察底片時(shí),為能識(shí)別缺陷圖像,缺陷圖像對(duì)比度與圖像噪聲之比應(yīng)不小于識(shí)別閾值。

題型:判斷題

像質(zhì)計(jì)放置次數(shù)一般應(yīng)與透照次數(shù)相同,相同部位、相同的透照條件連續(xù)透照時(shí)可適當(dāng)減少放置次數(shù).但不少于透照次數(shù)的三分之一。

題型:判斷題

底片圖像質(zhì)量參數(shù)中的顆粒度與膠片的粒度是同一概念。

題型:判斷題