單項(xiàng)選擇題在調(diào)制分析中,線圈的激勵(lì)頻率是由什么來(lái)調(diào)制的?()

A.物體電導(dǎo)率;
B.物體尺寸;
C.物體缺陷;
D.以上都是.


您可能感興趣的試卷

你可能感興趣的試題

1.單項(xiàng)選擇題調(diào)制定義為().

A.將儀器讀數(shù)與一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)比較的過(guò)程;
B.按照渦流響應(yīng)對(duì)物體分類的過(guò)程;
C.對(duì)于恒定的量施加一個(gè)可變影響的過(guò)程;
D.線圈磁化力增加不再能使材料磁通密度增大的點(diǎn)

2.單項(xiàng)選擇題化學(xué)成份、合金變化和熱處理變化通常所具有的頻率調(diào)制是().

A.低的;
B.中等的
C.高的;
D.非常高.

3.單項(xiàng)選擇題調(diào)制分析的主要局限性是,這種系統(tǒng)基于().

A.靜態(tài)試驗(yàn);
B.運(yùn)動(dòng)試驗(yàn);
C.絕對(duì)線圈排列;
D.差動(dòng)線圈排列.

4.單項(xiàng)選擇題進(jìn)行調(diào)制分析試驗(yàn)時(shí),試驗(yàn)線圈的類型().

A.必須是差動(dòng)式的
B.必須是絕對(duì)式的
C.可以是任意型的
D.a和b最好

5.單項(xiàng)選擇題在陰極射線管橢圓法試驗(yàn)中().

A.當(dāng)施加在偏轉(zhuǎn)板上的兩個(gè)電壓相位差90°時(shí),出現(xiàn)直線示蹤;
B.試樣中存在裂紋時(shí)將產(chǎn)生相位移;
C.棒材直徑變化不能與裂紋影響區(qū)分開(kāi);
D.垂直偏轉(zhuǎn)板上無(wú)電壓時(shí),熒光屏上將出現(xiàn)一個(gè)圓

最新試題

二次打底焊接或重熔排除,無(wú)需辦理相關(guān)手續(xù),直接使用前次的申請(qǐng)手續(xù)。

題型:判斷題

一次完整的兩面多層補(bǔ)焊,當(dāng)正面打底層質(zhì)量進(jìn)行過(guò)一次X射線檢測(cè),若反面還需打底,則無(wú)需X射線檢測(cè)。

題型:判斷題

產(chǎn)品焊接接頭最終質(zhì)量經(jīng)X射線檢驗(yàn)合格后不得再實(shí)施影響接頭性能的加工(如校形、修刮、重熔等),否則應(yīng)重新申請(qǐng)進(jìn)行X射線檢測(cè)。

題型:判斷題

像質(zhì)計(jì)放置次數(shù)一般應(yīng)與透照次數(shù)相同,相同部位、相同的透照條件連續(xù)透照時(shí)可適當(dāng)減少放置次數(shù).但不少于透照次數(shù)的三分之一。

題型:判斷題

超差缺陷是否排除,由缺陷挖排人員挖排后直接提出申請(qǐng)、檢驗(yàn)蓋章認(rèn)可后送X光檢測(cè)。

題型:判斷題

X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對(duì)需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注,確保定位準(zhǔn)確。

題型:判斷題

X光檢驗(yàn)組按復(fù)查清單組織復(fù)查,并出具X光底片復(fù)查報(bào)告,復(fù)查無(wú)遺留問(wèn)題方可進(jìn)行試壓。

題型:判斷題

底片或電子圖片、X射線照相檢驗(yàn)記錄、射線檢測(cè)報(bào)告副本、檢測(cè)報(bào)告等及臺(tái)帳由X光透視人員負(fù)責(zé)管理。

題型:判斷題

一次完整的補(bǔ)焊過(guò)程中缺陷是否排除X光透照確認(rèn)可以不限次數(shù),直至缺陷完全排除。

題型:判斷題

對(duì)含有內(nèi)穿過(guò)式線圈的薄壁管,影響其阻抗變化的因素有()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題