A.測量涂層厚度
B.測量包殼厚度
C.測量薄板厚度
D.上述三項都是
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你可能感興趣的試題
A.磁場強度
B.磁通密度
C.磁耦合
D.磁滯密度
A.缺陷深度
B.缺陷寬度
C.缺陷長度
D.上述三項都是
A.改善檢測頻率以降低噪聲
B.增加檢驗儀器的放大倍數(shù)
C.改善填充系數(shù)
D.在儀器中增加濾波器
A.校準過和未校準過的電表
B.石芯試紙
C.陰極射線管
D.紙帶記錄儀
A.次級繞組上
B.初級繞組上
C.初級繞組或者次級繞組上,取決于儀器結構
D.初級繞組和次級繞組上
最新試題
底片或電子圖片、X射線照相檢驗記錄、射線檢測報告副本、檢測報告等及臺帳由X光透視人員負責管理。
對于厚度變化較大的變截面工件透照,只要底片黑度符合GJB1187A的要求時,就可采用多膠片技術。
點焊未熔合、脫焊等面狀缺陷最有效的檢測方法是X射線檢測。
像質計放置次數(shù)一般應與透照次數(shù)相同,相同部位、相同的透照條件連續(xù)透照時可適當減少放置次數(shù).但不少于透照次數(shù)的三分之一。
對焊接接頭穩(wěn)定時間有規(guī)定的產品,工藝規(guī)程應作出規(guī)定,檢驗監(jiān)控確認,檢驗蓋章時穩(wěn)定時間不足者應在申請單注明穩(wěn)定時間節(jié)點,否則X光室視為穩(wěn)定時間符合要求。
提出有效磁導率的是下列哪位科學家()
底片圖像質量參數(shù)中的顆粒度與膠片的粒度是同一概念。
對含有內穿過式線圈的薄壁管,影響其阻抗變化的因素有()
為了提高射線照相對比度,可以采用高電壓、短時間、大管電流的方式曝光。
焊接工藝處理超標缺陷必須閱片的主要目的是()。