A.初印模
B.加壓印模
C.閉合式印模
D.解剖式印模
E.功能性印模
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A.向上、向后
B.向上、向外
C.向上、向內(nèi)
D.向后、向外
E.向上、向前
A.與磨牙后墊的前緣等高
B.與磨牙后墊的1/3等高
C.與磨牙后墊的1/2等高
D.與磨牙后墊的2/3等高
E.與磨牙后墊的后緣等高
A.1mm處
B.2mm處
C.3mm處
D.4mm處
E.5mm處
A.應(yīng)在上下唇系帶處制作后堤區(qū)
B.上頜硬區(qū)應(yīng)制作后堤區(qū)
C.上頜后堤區(qū)位于口腔前庭溝內(nèi)
D.上頜后堤區(qū)是上頜全口義齒后緣封閉區(qū)
E.頰棚區(qū)也稱為后堤區(qū)
A.頜弓前段向下、向前吸收
B.頜弓后段向上、向外吸收
C.下頜弓逐漸變小
D.牙槽嵴變低、變寬
E.腭穹隆變低、淺
最新試題
雙側(cè)磨牙游離缺失的可摘局部義齒,末端基牙常用的卡環(huán)是()。
用于游離端缺失的可摘局部義齒卡環(huán)是()。
在黏固前可采取何種預(yù)防措施()。
鑄造側(cè)腭桿與余留牙的關(guān)系應(yīng)為()。
下頜全口義齒基托邊緣不宜伸展的區(qū)域是()。
樁冠修復(fù)的時(shí)機(jī),應(yīng)在完善的根管治療后至少多長(zhǎng)時(shí)間才能進(jìn)行()。
為消除可摘局部義齒不穩(wěn)定,錯(cuò)誤的方法是()。
卡臂尖位于基牙倒凹區(qū)的目的是防止義齒()。
從口內(nèi)取出可摘局部義齒印橫時(shí),一般先()。
下列關(guān)于磨牙后墊的描述,錯(cuò)誤的是()。