A.1/2
B.1/3
C.1/4
D.2/3
E.3/4
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A.近缺隙側大,遠缺隙側小
B.近缺隙側小,遠缺隙側大
C.近缺隙側和遠缺隙側都小
D.近缺隙側和遠缺隙側都大
E.近缺隙側和遠缺隙側相等
A.放置附著體的基牙冠修復后,為增加附著體的強度可增寬牙冠的頰舌徑
B.冠內(nèi)附著體與其他固位體可聯(lián)合使用
C.栓道的底部即起到常規(guī)義齒中牙合支托窩的作用
D.如義齒需采用兩個或兩個以上冠內(nèi)附著體,必須使各冠內(nèi)附著體栓道軸壁間有共同就位道
E.冠內(nèi)附著體可用于修復游離端牙列缺損的患者
A.附著體陰性結構與陽性結構接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結構與陽性結構接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結構即栓道的軸壁形態(tài)對固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過程中,附著體預成品,通過包埋、鑄造、研磨等工序,會影響附著體陰型結構和陽型結構的密合度,影響附著體固位
A.2mm
B.3mm
C.1.5mm
D.2.5mm
E.桿與黏膜緊密接觸
A.腭護板可以戴到正式義頜完成時
B.腭護板戴入后,一般不需要修改
C.腭護板戴入后,白天、夜間均要戴
D.腭護板可在外科手術后6~10天制作
E.腭護板可以周期性添加暫襯材料
最新試題
取戴義齒時痛,應()。
下頜牙槽嵴吸收的方向是()。
單端固定橋的適應證不包括()。
患者采用固定義齒修復,若缺牙間隙大于同名牙,可采取的符合美學的措施為()。
先制取初印模后,在初印模上均勻去出一層印模材料,然后再制取終印模是()。
磁性附著體屬于()。
全口義齒基托需要緩沖的地方是()。
影響全口義齒穩(wěn)定性,使全口義齒固位力發(fā)生變化的主要因素是()。
Kennedy第一類缺失,基牙向遠中傾斜。擬用可摘局部牙齒修復,義齒戴入的方向是()。
垂直距離恢復過大的表現(xiàn)不包括()。