A.工作模修整時(shí),前庭溝加深的部位在上頜
B.工作模修整時(shí),前庭溝加深的部位在下頜
C.鋪緩沖蠟時(shí),至下唇擋外約5mm
D.在上前牙近牙齦1/3處刻出1mm的深線,以利唇弓貼合
E.唇擋截面呈淚滴狀,下緣厚上緣薄
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A.頰屏的上頜部分與齒槽間有3mm的間隙
B.唇擋截面呈淚滴壯,上緣厚下緣薄
C.唇擋下緣在齦上至少7.5mm
D.下唇擋是為了消除下唇對(duì)下頜的壓力
E.唇擋和頰屏的厚度不超過2.5mm
A.300g以上力
B.350g以上力
C.400g以上力
D.500g以上力
E.800g以上力
A.50g力
B.100g力
C.200g力
D.150g力
E.300g力
A.主要用于矯正長(zhǎng)度不調(diào)
B.可以用于矯正后牙寬度不調(diào)
C.最適宜于青春生長(zhǎng)進(jìn)發(fā)期1~2年開始
D.主要用于恒牙早期
E.不適用于牙列擁擠者
A.個(gè)別錯(cuò)位牙的矯治
B.擴(kuò)大牙弓
C.糾正頜間關(guān)系的異常
D.修復(fù)前的正畸治療
E.嚴(yán)重?fù)頂D者
最新試題
增加磨牙支抗時(shí),口外弓每日戴用時(shí)間為()
抑制上頜生長(zhǎng)的力是()
最后孤立化傾斜的磨牙上應(yīng)設(shè)計(jì)的卡環(huán)是()
固定矯治時(shí)釉質(zhì)脫礦發(fā)病率為()
抑制上頜骨生長(zhǎng)(ANB3°~5°)時(shí),口外弓每日戴用時(shí)間為()
1955年毛燮均教授等以理想為標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查統(tǒng)計(jì)錯(cuò)患病為率()
抑制上頜骨生長(zhǎng)(ANB>5°)時(shí),口外弓每日戴用時(shí)間為()
造成腭蓋高拱、牙弓狹窄、下頜后縮的原因()
新生兒下頜角為()
推磨牙向遠(yuǎn)中的力是()