A.基準(zhǔn)平面為頭影測(cè)量中相對(duì)穩(wěn)定的平面
B.最常用的基準(zhǔn)平面有前顱底平面,眼耳平面和Bolton平面
C.大部分個(gè)體在正常頭位時(shí),眼耳平面與地面平行
D.Bolton平面多用作重疊頭影圖的基準(zhǔn)平面
E.以上都不對(duì)
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.Wylie分析法
B.Wits分析法
C.Tweed分析法
D.Steiner分析法
E.Downs分析法
A.1mm
B.2mm
C.3mm
D.5mm
E.6mm
A.前牙反
B.前牙深覆蓋
C.磨牙遠(yuǎn)中
D.磨牙近中
E.以上均有可能
A.不應(yīng)大于12~15歲
B.不應(yīng)大于15~17歲
C.不應(yīng)大于10~15歲
D.不應(yīng)大于12~17歲
E.不應(yīng)大于15歲
A.嚴(yán)重的牙列擁擠
B.無(wú)恒牙胚缺失
C.雙頜前突的患兒
D.肌功能基本正常
E.無(wú)明顯牙頜面關(guān)系異常
最新試題
下列不屬于早期矯治方法的是()
MTM改善前牙區(qū)美觀及咬合可實(shí)現(xiàn)()
種植體材料中,不屬于生物惰性材料的是()
下面哪個(gè)指標(biāo)屬于Tweed分析法構(gòu)成()
在牙體組織的反應(yīng)中哪項(xiàng)反應(yīng)與矯治力無(wú)關(guān)()
下列不是成人正畸治療前注意問(wèn)題的是()
下列哪項(xiàng)分析法是對(duì)牙頜面形態(tài)結(jié)構(gòu)深度及高度的測(cè)量()
10~12歲時(shí),上唇系帶附著距離中切牙齦緣上方約為()
只有上頜腭部及下頜舌側(cè)的塑料基托及一個(gè)包埋于牙弓兩側(cè)最后磨牙遠(yuǎn)中基托內(nèi)的長(zhǎng)唇弓的保持器是()
發(fā)生免疫排斥反應(yīng)的可能抗原不包括()