化學(xué)清洗用于去除工件表面的（）

采用X射線機(jī)對某一工件探傷時，焦距為1m，曝光時間為6min，其余條件均不變，曝光時間改為3min時透照焦距應(yīng)改為（）

下列磁化方法中容易計算工件表面磁場強(qiáng)度的是（）

在射線照相時，像質(zhì)計應(yīng)放置在（）

下列關(guān)于IIW試塊的說法，正確的是（）

關(guān)于近場長度的說法，正確的是（）

關(guān)于超聲波斜入射，下列說法正確的是（）

射線經(jīng)過一個半價層后，其（）衰減一半。

射線照像底片產(chǎn)生黃色灰霧，其原因是（）

散射比的大小與（）因素有關(guān)。