多項(xiàng)選擇題紅外線氣體分析器氣室窗口上的晶片，可用（）進(jìn)行浸泡、擦洗。

A、丙酮
B、鏡頭紙
C、無水乙醇
D、綢布


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1.單項(xiàng)選擇題紅外線氣體分析器氣室被污染，若污染物是有機(jī)聚合物或膠體，應(yīng)采用（）方法進(jìn)行清洗。

A、丙酮浸泡清洗
B、機(jī)械方法清洗
C、鋼絲球清洗
D、綢布擦洗

2.單項(xiàng)選擇題

紅外線氣體分析器氣室若被弄臟或表面被污染，應(yīng)采用（）方法進(jìn)行清洗。

A、無水乙醇清洗
B、機(jī)械方法清洗
C、鋼絲球清洗
D、綢布擦洗

3.多項(xiàng)選擇題紅外分析儀調(diào)校的主要內(nèi)容有（）。

A、相位平衡調(diào)整
B、光路平衡調(diào)整
C、零點(diǎn)校準(zhǔn)
D、量程校準(zhǔn)

5.單項(xiàng)選擇題調(diào)整紅外分析儀參比光路上的偏心遮光片（也稱擋光板、光閘），改變參比光路的光通量，使測量、參比兩光路的光能量相等。這種調(diào)整屬于（）。

A、相位平衡調(diào)整
B、光路平衡調(diào)整
C、零點(diǎn)校準(zhǔn)
D、量程校準(zhǔn)