膜分離裝置是利用各種氣體在膜中的溶解度和擴(kuò)散系數(shù)不同，來(lái)達(dá)到分離。

增加溫度、降低壓力可增加氨的溶解度。

加熱爐爐膛置換一般采用（）。

合成氨轉(zhuǎn)化加熱爐的形式為（）。

加氫槽的作用是將有機(jī)硫轉(zhuǎn)化為無(wú)機(jī)硫。

合成廢鍋連排主要是排放廢鍋中的顆粒等比較大的雜質(zhì)。

合成塔阻力逐漸增大的原因：觸媒結(jié)塊、（）、入塔氣帶液、帶油。

冷換設(shè)備投用時(shí)先通高溫介質(zhì)再通低溫介質(zhì)。

低變爐開(kāi)始還原時(shí)無(wú)需進(jìn)行試配氫。

加熱爐爐膛置換（）含量〈0.5%時(shí)合格。