A.H=I/2πr2
B.H=I/2πr
C.H=Ir/2π
D.H=I/2πrR
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A.以固定位置排列,方向互相抵消
B.以固定位置排列,在一個(gè)方向占優(yōu)勢
C.無規(guī)則的排列
D.與金屬晶粒結(jié)構(gòu)相同
A.北極
B.南極
C.北極和南極
D.任意
A.缺陷
B.飽和點(diǎn)
C.磁極
D.交點(diǎn)
A.25奧斯特
B.50奧斯特
C.75奧斯特
D.100奧斯特
A.50奧斯特
B.75奧斯特
C.100奧欺特
D.125奧斯特
最新試題
由于圓柱形工件有一定的曲率,直探頭與工件直接接觸時(shí),接觸面為一條很寬的條形區(qū)域,從在而在圓柱的橫截面內(nèi)會產(chǎn)生強(qiáng)烈的聲束擴(kuò)散。
衍射時(shí)差法對缺陷的定量依賴于缺陷的回波幅度。
缺陷相對反射率即缺陷反射聲壓與基準(zhǔn)反射體聲壓之比。
動態(tài)范圍的最小信號可能受到放大器的飽合或系統(tǒng)噪聲的限制。
水浸式探頭主要特點(diǎn)是探頭與工件直接接觸,且探頭部分或全部門浸入耦合液中。
衍射時(shí)差法探傷,當(dāng)有缺陷存在時(shí),在直通波和底面反射波之間,接收探頭會接收到缺陷處產(chǎn)生的衍射波。
儀器時(shí)基線比例一般在試塊上調(diào)節(jié),當(dāng)工件與試塊的聲速不同時(shí),儀器的時(shí)基線比例發(fā)生變化,影響缺陷定位精度。
分辯率可使用通用探傷儀進(jìn)行測量,測試時(shí)儀器抑制置“零”或“開”位,必要時(shí)可加匹配線圈。
根據(jù)球形反射體返回晶片聲壓的計(jì)算公式與圓柱形平面反射體的表達(dá)式進(jìn)行比較可知,在反射體直徑相同的情況下,圓形反射體的反射聲壓比球形反射體的反射壓小。
當(dāng)探頭的性能不佳時(shí)出現(xiàn)兩個(gè)主聲束,發(fā)現(xiàn)缺陷時(shí)很難判斷是哪個(gè)主聲束發(fā)現(xiàn)的,因此也就難以確定缺陷的實(shí)際位置。