A、申請(qǐng)人應(yīng)當(dāng)在進(jìn)入聲明中予以說明，并填寫遺傳資源來源披露登記表
B、申請(qǐng)人應(yīng)當(dāng)說明該遺傳資源的直接來源和原始來源；無法說明原始來源的，應(yīng)當(dāng)陳述理由
C、該遺傳資源是違反行政法規(guī)的規(guī)定獲取的，該申請(qǐng)不能被授予專利權(quán)
D、該申請(qǐng)未說明該遺傳資源直接來源的，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局將直接作出駁回該申請(qǐng)的決定

A、訴前責(zé)令停止侵犯專利權(quán)行為的申請(qǐng)，可以向管理專利工作的部門或者人民法院提出
B、申請(qǐng)人提出訴前責(zé)令停止侵犯專利權(quán)行為的申請(qǐng)時(shí)，應(yīng)當(dāng)提供擔(dān)保
C、人民法院應(yīng)當(dāng)自接受訴前責(zé)令停止侵犯專利權(quán)行為的申請(qǐng)之時(shí)起四十八小時(shí)內(nèi)作出裁定；有特殊情況需要延長(zhǎng)的，可以延長(zhǎng)四十八小時(shí)
D、當(dāng)事人對(duì)責(zé)令停止侵犯專利權(quán)行為的裁定不服的可以申請(qǐng)復(fù)議，復(fù)議期間暫停裁定的執(zhí)行

A、2010年7月3日
B、2010年7月22日
C、2010年7月23日
D、2010年7月25日

A、權(quán)利要求2：如權(quán)利要求1所述的制造半導(dǎo)體器件的方法，其特征在于d
B、權(quán)利要求2：制造如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件的方法，其特征在于e
C、權(quán)利要求2：如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件，其特征在于所述部件f由銅制成
D、權(quán)利要求2：如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件，其特征在于還包括部件g

A、專利代理人承辦專利代理業(yè)務(wù)，應(yīng)當(dāng)與委托人簽訂委托合同，寫明委托事項(xiàng)和委托權(quán)限
B、接受委托的專利代理機(jī)構(gòu)應(yīng)當(dāng)以委托人的名義，在代理權(quán)限范圍內(nèi)辦理專利申請(qǐng)或者辦理其他專利事務(wù)
C、專利代理機(jī)構(gòu)接受委托后，不得就同一內(nèi)容的專利事務(wù)接受有利害關(guān)系的其他委托人的委托
D、專利代理人在從事專利代理業(yè)務(wù)期間，不得申請(qǐng)專利