A.模體表面下
B.模體中心
C.模體表面
D.模體表面下射野中心軸上最大劑量點(diǎn)處
E.模體后緣
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A.標(biāo)準(zhǔn)模體
B.均勻模體
C.替代模體
D.水模體
E.組織填充模體
A.高LET;高RBE;高OER
B.高LET;高RBE;低OER
C.高LET;低RBE;高OER
D.高LET;低RBE;低OER
E.低LET;高RBE;高OER
A.質(zhì)子
B.快中子
C.π負(fù)介子
D.氮離子
E.氖離子
A.減少葉片間漏射線(xiàn)
B.減少葉片端面間的漏射
C.減小幾何半影
D.減小散射半影
E.減小穿射半影
A.檢測(cè)X射線(xiàn)
B.監(jiān)測(cè)電子束的劑量率
C.監(jiān)測(cè)積分劑量
D.監(jiān)測(cè)射野的平坦度
E.監(jiān)測(cè)射野的對(duì)稱(chēng)性
最新試題
伽瑪?shù)栋悬c(diǎn)位置精度高于X射線(xiàn)立體定向治療系統(tǒng)的精度。
人體曲面校正的組織空氣比法或組織最大劑量比方法的修正因子CF的表達(dá)式是()。
射線(xiàn)能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變?cè)叫 ?/p>
光電效應(yīng)時(shí)入射X(γ)光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級(jí)電子動(dòng)能,另一部分為特征X 射線(xiàn)能量。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱(chēng)分別為QA、QC。
帶電粒子入射到物體時(shí),沒(méi)有確定的射程。
組織最大劑量比TMR 和源皮距的關(guān)系是()。
質(zhì)子束的優(yōu)勢(shì)在于布拉格峰形百分深度劑量分布。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱(chēng)為射線(xiàn)質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
對(duì)鈷60機(jī)射野的對(duì)稱(chēng)性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。