A.同一深度處,射野中心軸上的劑量接近最高
B.在射野邊緣附近,劑量隨離軸距離增加而逐漸減少
C.由幾何半影、準(zhǔn)直器漏射和側(cè)向散射引起的射野邊緣的劑量漸變區(qū)稱為有效半影
D.射野幾何邊緣以外的半影區(qū)的劑量主要由準(zhǔn)直器散射線造成
E.準(zhǔn)直范圍外較遠(yuǎn)的劑量由機(jī)散射線引起
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A.高劑量率治療的總劑量較高
B.高劑量率治療的總劑量較低
C.二者總劑量相近
D.依所用放射源而定
E.依病變部位而定
A.適形照射
B.插植照射
C.適形插植照射
D.適形組織內(nèi)照射
E.模照射
A.電子束治療技術(shù)難度小,近距離治療技術(shù)難度大
B.電子束的劑量較復(fù)雜
C.電子束治療是一次照射,近距離治療可分割照射
D.電子束治療的合并癥較多,近距離治療合并癥較少
E.電子束治療的成本較高,近距離治療的成本較低
A.腫瘤放射敏感性中等或較差
B.腫瘤體積較大
C.腫瘤侵犯骨
D.腫瘤邊界欠清
E.腫瘤體積難以確定
A.核素符號
B.核素符號,輻射線的平均能量
C.輻射線的平均能量,半衰期
D.半衰期,核素符號
E.核素符號,輻射線的平均能量,半衰期
最新試題
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達(dá)到()。
帶電粒子入射到物體時,沒有確定的射程。
射野中心軸上百分深度劑量值的大小直接反應(yīng)了射線質(zhì)(能量)的高低。
組織最大劑量比TMR 和源皮距的關(guān)系是()。
對重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變越小。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時間短的優(yōu)點(diǎn),而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時,應(yīng)采用雙平面插植。