A.溫度
B.氣壓
C.劑量率
D.入射角度
E.入射光子能譜
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A.0.6%
B.1.6%
C.3.2%
D.20%
E.40%
A.所有X射線能量范圍應(yīng)使用相同的濾過板
B.140kV以下用鋁,140kV以上用銅或銅十鋁復(fù)合過濾
C.使用復(fù)合過濾板時(shí)應(yīng)沿射線方向先放原子序數(shù)小的,后板原子序數(shù)大的
D.使用濾過板不會(huì)使射線強(qiáng)度下降
E.經(jīng)過濾過板后的X射線的半價(jià)層比原來低
A.光釋光系統(tǒng)
B.放射光致發(fā)光玻璃劑量學(xué)系統(tǒng)
C.熱釋光劑量計(jì)
D.膠片劑量計(jì)
E.電子個(gè)人劑量計(jì)
A.有絲分裂前期(G2)
B.有絲分裂期(M)
C.DNA合成前期(G1)
D.DNA合成期(S)
E.靜止期(G0)
A.<1mm
C.<3mm
D.<4mm
E.<5mm
最新試題
準(zhǔn)直器所產(chǎn)生的散射線對劑量的貢獻(xiàn)主要源于二級(jí)準(zhǔn)直器。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
帶電粒子入射到物體時(shí),沒有確定的射程。
組織最大劑量比TMR 和源皮距的關(guān)系是()。
對重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
實(shí)際患者治療時(shí),無環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。