A.指型電離室
B.半導(dǎo)體探測(cè)器
C.中子探測(cè)器
D.閃爍計(jì)數(shù)器
E.正比計(jì)數(shù)器
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A.射線束能量高
B.射線束劑量率高
C.放射源尺寸大
D.曝光時(shí)間長(zhǎng)
E.照射距離長(zhǎng)
A.也稱(chēng)為Kerma
B.從間接電離輻射轉(zhuǎn)移到直接電離輻射的平均數(shù)量
C.不考慮能量轉(zhuǎn)移后的情況
D.沉積在單位質(zhì)量中的能量
E.適用于非直接電離輻射的一個(gè)非隨機(jī)量
A.95%
B.90%
C.85%
D.80%
E.75%
A.絕對(duì)比釋動(dòng)能和相對(duì)比釋動(dòng)能
B.絕對(duì)比釋動(dòng)能和碰撞比釋動(dòng)能
C.絕對(duì)比釋動(dòng)能和輻射比釋動(dòng)能
D.絕對(duì)比釋動(dòng)能、相對(duì)比釋動(dòng)能、碰撞比釋動(dòng)能和輻射比釋動(dòng)能
E.碰撞比釋動(dòng)能和輻射比釋動(dòng)能
A.增加了治療凈空間
B.不能單獨(dú)使用原有的一、二級(jí)準(zhǔn)直器進(jìn)行治療
C.葉片長(zhǎng)度比替代二級(jí)準(zhǔn)直器的MLC葉片運(yùn)動(dòng)范圍要長(zhǎng)或形成的射野較小
D.增加了漏射劑量
E.準(zhǔn)直器散射因子(SC.和模體散射因子(Sp)不變
最新試題
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱(chēng)為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱(chēng)分別為QA、QC。
LET=()Kev/μm 是高低LET 射線的分界線。
半影為射野邊緣劑量隨離開(kāi)中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
百分深度劑量受照射野面積的影響。
α/β不僅代表了細(xì)胞存活曲線的曲度,也代表了細(xì)胞對(duì)亞致死損傷的修復(fù)能力。
組織最大劑量比TMR 和源皮距的關(guān)系是()。
直線加速器使用的射野最大為()。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn),而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。