A.內(nèi)側(cè)丘系
B.外側(cè)丘系
C.下丘
D.上丘
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D.頂葉21區(qū)
A.300—800赫茲
B.400—1000赫茲
C.500—1200赫茲
D.600—1400赫茲
A.聽(tīng)覺(jué)
B.視覺(jué)
C.軀體覺(jué)
D.嗅覺(jué)
A.細(xì)胞分工編碼
B.調(diào)頻式編碼
C.級(jí)量反應(yīng)式編碼
D.強(qiáng)度差編碼
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慢性埋藏電極刺激動(dòng)物腦的某些部位會(huì)引發(fā)動(dòng)物的自我刺激行為,其中以內(nèi)側(cè)前腦束后部的陽(yáng)性自我刺激反應(yīng)率最高,這是因?yàn)椋ǎ┩泛停ǎ┩吩诖藭?huì)合。
()的光感受機(jī)制包括光生物化學(xué)和光生物物理學(xué)兩類反應(yīng)。兩者均發(fā)生在兩類光感受細(xì)胞,即視錐細(xì)胞和視桿細(xì)胞之中。
自上而下的信息流距離,可分為哪些反饋聯(lián)系?()
軀體感覺(jué)皮層中的()包括了各種相同感受野的每種功能柱在內(nèi),成為軀體各種感覺(jué)的()最基本功能單位,與體表空間對(duì)應(yīng)關(guān)系排列著。
論述面孔認(rèn)知的整體加工理論和專家理論。
簡(jiǎn)述記憶痕跡理論的主要觀點(diǎn)。
簡(jiǎn)述大腦、小腦和基底神經(jīng)節(jié)在無(wú)監(jiān)督學(xué)習(xí)、強(qiáng)化學(xué)習(xí)和監(jiān)督學(xué)習(xí)三種不通模式中的作用機(jī)制。