化工設(shè)備通常由主視圖和俯（左）視圖兩個(gè)基本視圖表達(dá)，主視圖一般采用（）。

全剖視圖可以采用（）剖切面進(jìn)行剖切。

側(cè)平面的投影特性是（）。

點(diǎn)A、B為W面上的重影點(diǎn)，且點(diǎn)A在點(diǎn)B之右，其在W面上可寫作（）。

根據(jù)化工設(shè)備的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，常會(huì)采用（）等表達(dá)方法來補(bǔ)充基本視圖表達(dá)的不足。

臥式設(shè)備應(yīng)采用（）支座。

對(duì)于高大的塔設(shè)備，其裝配圖可采用（）以降低總體高度。

有回轉(zhuǎn)軸的機(jī)件適合采用（）進(jìn)行剖切。

平面截切體截交線的求解方法有（）。

塔設(shè)備通常較高，其內(nèi)件結(jié)構(gòu)和排布具有一定的規(guī)律性，因此常采用（）等表達(dá)方法。