單項選擇題化工化學(xué)水裝置低硅水來水壓力要求控制在（）MPa。
A.0.1～0.3
B.0.4～0.6
C.0.7～0.9
D.1.0～1.2
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.單項選擇題化工化學(xué)水裝置低硅水來水CODMn控制指標(biāo)≤（）mg/L。
A.1
B.2
C.3
D.4
2.單項選擇題化工化學(xué)水裝置原水低硅水中含量較高的陰離子有四種，分別為（）。
A.HCO3-、CL-、SO42-、HSiO3-
B.HCO3-、CL-、SO42-、CO32-
C.HCO3-、CO32-、CL-、NO3-
D.HCO3-、CO32-、SO42-、HSiO3-
3.單項選擇題化工化學(xué)水裝置原水低硅水中含量較高的陽離子有四種，分別為（）。
A.Na+、Fe2+、Ca2+、Mg2+
B.Na+、K+、Ca2+、Mg2+
C.Na+、K+、Fe2+、Ca2+
D.Na+、K+、Ca2+、Cu2+
4.單項選擇題當(dāng)水的PH值小于（）時，水中碳酸幾乎完全以二氧化碳的形式存在。
A.4.3
B.6.2
C.7.8
D.9.0
5.單項選擇題當(dāng)天然水中PH值大于8.3時，水中不存在（）。
A.CO2
B.HCO3-
C.CO32-
D.OH-
最新試題
水泵測振點應(yīng)選在（）位置。
題型：單項選擇題
乏汽回收裝置可實現(xiàn)（）的自動控制。
題型：多項選擇題
閥門密封面不嚴(yán)密時，如有閥門與閥體配合不嚴(yán)密的現(xiàn)象，應(yīng)（）。
題型：多項選擇題
循環(huán)水系統(tǒng)影響金屬腐蝕的主要因素是PH值、陰離子（主要是氯離子和硫酸根離子）、硬度、溶解氧、（）
題型：多項選擇題
接觸氧化法除鐵所用的濾料中，（）的“成熟期”最短。
題型：單項選擇題
純水裝置的主要輔料有（）
題型：多項選擇題
純水裝置的主要原料有（）
題型：多項選擇題
制水人員必須根據(jù)熱力設(shè)備用水情況（）保質(zhì)保量的滿足熱力系統(tǒng)的用水需求。
題型：多項選擇題
液位計是用來測量和指示容器內(nèi)介質(zhì)的（），保證容器運行在允許的液位范圍內(nèi)。
題型：單項選擇題
測定鍋爐負荷對蒸汽汽質(zhì)的影響時，應(yīng)在（）的條件下進行。
題型：單項選擇題