A.包括遮線門(mén)、擋塊、補(bǔ)償器、MLC、楔形板
B.由擋塊、組織填充物組成
C.組織異質(zhì)性或不均勻修正一般用于解決在大的均勻水體模測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)射野與實(shí)際病人之間差異的問(wèn)題
D.通過(guò)采用中心軸和離軸的劑量數(shù)據(jù)集,使用0野的TAR和計(jì)算深度的散射空氣比,將射野的原射線與散射線組分分開(kāi)來(lái)計(jì)算不規(guī)則射野內(nèi)感興趣點(diǎn)劑量
E.能估算指定器官的劑量反應(yīng),并幫助評(píng)估劑量分割和體積效應(yīng)
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.初級(jí)離子數(shù)與探測(cè)體積內(nèi)帶電粒子軌跡上沉積的能量成正比
B.適合測(cè)量低強(qiáng)度輻射場(chǎng),每次相互作用中收集到的電荷量與探測(cè)器內(nèi)氣體中沉積的能量成正比
C.測(cè)量?jī)x的壁內(nèi)側(cè),通常附加一層硼化合物,或者測(cè)量?jī)x內(nèi)充BF3氣體
D.適用于泄漏測(cè)試和放射性污染的探測(cè)
E.有很高的體積電阻抗(如CdS、CdSe),該類(lèi)探測(cè)器在輻射場(chǎng)中接受照射時(shí)工作原理與固態(tài)電離室相似
A.大于10MeV的光子線
B.大于15MeV的光子線
C.大于15MeV的電子線
D.治療機(jī)最高能量的電子線
E.治療機(jī)最高能量的光子線
A.ICD
B.IEC
C.IAEA
D.ICRU
E.ICRP
A.基準(zhǔn)點(diǎn)
B.參考點(diǎn)
C.標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)
D.原點(diǎn)
E.等中心
A.用較小劑量照射組織,臨床不可檢測(cè)的、沒(méi)有閾值的效應(yīng)
B.用較小劑量照射組織,臨床不可檢測(cè)的、有閾值的效應(yīng)
C.用較大劑量照射組織,臨床不可檢測(cè)的、沒(méi)有閾值的效應(yīng)
D.用較大劑量照射組織,臨床可檢測(cè)的、有閾值的效應(yīng)
E.用較大劑量照射組織,臨床可檢測(cè)的、沒(méi)有閾值的效應(yīng)
最新試題
電離室型劑量?jī)x在每次測(cè)量前必需對(duì)氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
射野中心軸上百分深度劑量值的大小直接反應(yīng)了射線質(zhì)(能量)的高低。
對(duì)鈷60機(jī)射野的對(duì)稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達(dá)到()。
帶電粒子入射到物體時(shí),沒(méi)有確定的射程。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
實(shí)際患者治療時(shí),無(wú)環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
伽瑪?shù)栋悬c(diǎn)位置精度高于X射線立體定向治療系統(tǒng)的精度。
百分深度劑量受照射野面積的影響。