暗室處理是將曝光后具有潛像的膠片變?yōu)槟荛L期保存的可見像底片的處理過程。 它包括顯影、停顯、定影、水洗和干燥等五個步驟。
（1）試件檢查及清理 （2）劃線 （3）像質(zhì)計(jì)和標(biāo)記擺放 （4）貼片 （5）對焦 （6）散射線防護(hù) （7）曝光
（1）試件原始數(shù)據(jù) （2）規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù) （3）透照技術(shù)數(shù)據(jù) （4）特殊的技術(shù)措施及說明 （5）有關(guān)人員簽字
最新試題
清洗劑的基本要求有哪些？
常用的耦合劑有哪些？焊縫探傷多采用哪些？
焊縫磁粉探傷的一般工藝過程有哪些？
斜探頭的主要參數(shù)有哪些？
超聲波探傷一般包括哪幾個過程？
滲透劑的性能要求有哪些？
CSK-IB試塊的主要用途有哪些？
退磁處理須在什么情況下？
什么是液浸法，液浸法的分類？
缺陷的自身特點(diǎn)指哪些？