缺陷相對反射率即缺陷反射聲壓與基準反射體聲壓之比。

水浸聚焦探頭是由外殼、阻尼塊、晶片、聲透鏡等組成。

當探頭與被檢工件表面耦合狀態(tài)不同時，而又沒有進行適當?shù)难a償，會使定量誤差增加，精度下降。

動態(tài)范圍的最小信號可能受到放大器的飽合或系統(tǒng)噪聲的限制。

由于超聲波對進入面的表面粗糙度、入射超聲束的方向等有一定的要求，必要時應通過增添專門的工序，采用經(jīng)批準的加工方法準備超聲波進入面。

無論聲波相對于缺陷是垂直入射還是斜入射，缺陷大小不同其反射波的指向性有相當大的差異。

液浸法探傷是使探頭發(fā)射的超聲波經(jīng)過一段液體后再進入試件的檢測的方法。

水浸式探頭主要特點是探頭與工件直接接觸，且探頭部分或全部門浸入耦合液中。

對于比正常縱波底面回波滯后的變形波稱為遲到回波。

非金屬夾雜等缺陷的聲阻抗與鋼的聲阻抗相差很小，聲波在缺陷上的透射和吸收明顯高于白點和氣孔等缺陷。