A.提高橫向裂紋檢出率;
B.減小幾何不清晰度;
C.增大厚度寬容度;
D.提高底片對(duì)比度。
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A.鉛箔劃傷部位厚度減薄,對(duì)射線吸收減小,從而使該處透射線時(shí)增多;
B.劃傷使鉛箔表面增大,因而發(fā)射電子的面積增大,增感作用加強(qiáng);
C.深度劃傷與膠片之間的間隙增大,散射線增加;
D.以上都對(duì)。
A.應(yīng)在黑度軸上有些重合;
B.在黑度軸上無(wú)需重合;
C.應(yīng)在1gE軸上有些重合;
D.在1gE軸上無(wú)需重合。
A.為了防止暗室處理不當(dāng)而重新拍片;
B.為了防止探傷工藝選擇不當(dāng)而重新拍片;
C.為了防止膠片上的偽缺陷而重新拍片;
D.用于厚度差較大工件的射線探傷,這樣在不同厚度部位都能得到黑度適當(dāng)?shù)牡灼?/p>
A.提高管電流;
B.提高管電壓;
C.增加曝光時(shí)間;
D.縮短焦距。
A.10mm;
B.20mm;
C.14mm
D.15.4mm。
最新試題
底片圖像質(zhì)量參數(shù)中的顆粒度與膠片的粒度是同一概念。
對(duì)于圓柱導(dǎo)體的外通過(guò)式線圈,其阻抗變大的情況有()
底片或電子圖片、X射線照相檢驗(yàn)記錄、射線檢測(cè)報(bào)告副本、檢測(cè)報(bào)告等及臺(tái)帳由X光透視人員負(fù)責(zé)管理。
一次完整的兩面多層補(bǔ)焊,當(dāng)正面打底層質(zhì)量進(jìn)行過(guò)一次X射線檢測(cè),若反面還需打底,則無(wú)需X射線檢測(cè)。
觀察底片時(shí),為能識(shí)別缺陷圖像,缺陷圖像對(duì)比度與圖像噪聲之比應(yīng)不小于識(shí)別閾值。
在射線照相檢驗(yàn)中,隨著射線能量的提高,得到的圖像不清晰度也將增大。
像質(zhì)計(jì)放置次數(shù)一般應(yīng)與透照次數(shù)相同,相同部位、相同的透照條件連續(xù)透照時(shí)可適當(dāng)減少放置次數(shù).但不少于透照次數(shù)的三分之一。
對(duì)含有內(nèi)穿過(guò)式線圈的薄壁管,影響其阻抗變化的因素有()
超差缺陷是否排除,由缺陷挖排人員挖排后直接提出申請(qǐng)、檢驗(yàn)蓋章認(rèn)可后送X光檢測(cè)。
增加工藝性透視有利于保證焊接質(zhì)量,因此盡可能增加工藝性透視次數(shù)。