A、防止產(chǎn)生雜波
B、使脈沖變窄
C、使盲區(qū)變小
D、以上都是
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A、波長(zhǎng)短
B、聲束窄
C、能量集中
D、以上都對(duì)
A、探測(cè)深度大
B、檢測(cè)速度快
C、費(fèi)用低
D、以上都對(duì)
A、24°
B、27°
C、37°
D、48°
A、減小
B、增大
C、不變
D、既可增大又可減小
A、氣體
B、液體
C、固體
D、以上都不對(duì)
最新試題
渦流檢測(cè)中的對(duì)比試樣的()和材質(zhì)相對(duì)被檢測(cè)產(chǎn)品必須具有代表性。
渦流檢測(cè)輔助裝置的試樣傳動(dòng)裝置用于形狀規(guī)則產(chǎn)品的()
缺陷檢測(cè)即通常所說(shuō)的渦流探傷主要影響因素包括()、電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率、邊條效應(yīng)、提離效應(yīng)等。
在遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū),當(dāng)缺陷比聲束截面小時(shí),缺陷波高與缺陷面積成()
渦流檢測(cè)線圈是在被檢測(cè)導(dǎo)電材料或零件表面及近表面激勵(lì)產(chǎn)生()
當(dāng)波束中心線與缺陷面()且回波最()時(shí),移動(dòng)探頭使波束中心(),回波高度當(dāng)隨之下降。
對(duì)于圓盤(pán)形試件,常沿()在圓面上進(jìn)行掃查。
在聲束垂直試件表面時(shí),所獲得的()反射波高可能并不是可獲得的最大反射波高。
掃描儀器的掃查的間距通常根據(jù)探頭的最小聲束(),保證兩次掃查之間有一定比例的覆蓋。
對(duì)檢測(cè)儀的時(shí)間基線進(jìn)行校正后,缺陷的埋藏深度可從熒光屏的()上讀出。