CH4在膜中滲透率大于H2。

低變爐開始還原時(shí)無(wú)需進(jìn)行試配氫。

放硫結(jié)束的標(biāo)志是出口氣體中H2S〈（）ppm。

合成廢鍋連排主要是排放廢鍋中的顆粒等比較大的雜質(zhì)。

合成氨轉(zhuǎn)化的助燃劑為（）。

加熱爐爐膛置換（）含量〈0.5%時(shí)合格。

低變催化劑超溫?zé)Y(jié)的原因只有進(jìn)口CO含量過(guò)高。

引風(fēng)機(jī)啟動(dòng)時(shí)需將導(dǎo)葉全部打開。

調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)化氣廢鍋旁路管線可以控制中變爐入口溫度。

正常操作時(shí)，只要床溫正常，氧含量超標(biāo)也不用調(diào)整。