CH4在膜中滲透率大于H2。

加熱爐爐膛置換一般采用（）。

放硫結(jié)束的標志是出口氣體中H2S〈（）ppm。

氨合成塔阻力降應控制在100KPa以內(nèi)。

甲烷化的（）和提氫氣混合經(jīng)中變氣加熱后進入甲烷化爐。

加氫槽的作用是將有機硫轉(zhuǎn)化為無機硫。

在壓縮機運行過程中活塞桿的摩擦部位溫度應小于100℃

汽提塔處理后的F.T廢水去生化廢水。

合成廢鍋連排主要是排放廢鍋中的顆粒等比較大的雜質(zhì)。

合成氨轉(zhuǎn)化加熱爐的形式為（）。