中低變可進(jìn)行單獨(dú)氮?dú)庋h(huán)升溫。

在高壓下進(jìn)行合成氨反應(yīng)，有利于反應(yīng)的平衡向生成氨的方向移動(dòng)。

加熱爐爐膛置換一般采用（）。

低變爐開(kāi)始還原時(shí)無(wú)需進(jìn)行試配氫。

氨合成塔阻力降應(yīng)控制在100KPa以內(nèi)。

甲烷化的（）和提氫氣混合經(jīng)中變氣加熱后進(jìn)入甲烷化爐。

水蒸汽造成的催化劑失活是暫時(shí)性失活。

膜分離裝置是利用各種氣體在膜中的溶解度和擴(kuò)散系數(shù)不同，來(lái)達(dá)到分離。

正常操作時(shí)，只要床溫正常，氧含量超標(biāo)也不用調(diào)整。

合成氨轉(zhuǎn)化的助燃劑為（）。