在通常的甲烷化系統(tǒng)操作條件下，每1％的二氧化碳轉(zhuǎn)化的絕熱溫升是（）℃。

氨合成塔阻力降應(yīng)控制在100KPa以內(nèi)。

合成塔阻力逐漸增大的原因：觸媒結(jié)塊、（）、入塔氣帶液、帶油。

轉(zhuǎn)化廢鍋產(chǎn)的2.5MPa的蒸汽用于轉(zhuǎn)化系統(tǒng)調(diào)節(jié)水碳比。

加氫槽的作用是將有機硫轉(zhuǎn)化為無機硫。

低變催化劑超溫?zé)Y(jié)的原因只有進(jìn)口CO含量過高。

膜分離裝置是利用各種氣體在膜中的溶解度和擴散系數(shù)不同，來達(dá)到分離。

放硫結(jié)束的標(biāo)志是出口氣體中H2S〈（）ppm。

加熱爐爐膛置換（）含量〈0.5%時合格。

合成廢鍋連排主要是排放廢鍋中的顆粒等比較大的雜質(zhì)。