膜分離裝置是利用各種氣體在膜中的溶解度和擴(kuò)散系數(shù)不同，來達(dá)到分離。

低變爐開始還原時(shí)無需進(jìn)行試配氫。

調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)化氣廢鍋旁路管線可以控制中變爐入口溫度。

中低變可進(jìn)行單獨(dú)氮?dú)庋h(huán)升溫。

增加空速可增加合成氨產(chǎn)量，因此空速越大越好。

在通常的甲烷化系統(tǒng)操作條件下，每1％的二氧化碳轉(zhuǎn)化的絕熱溫升是（）℃。

合成氨轉(zhuǎn)化加熱爐的形式為（）。

當(dāng)切斷冰機(jī)主電機(jī)電源后，可以立即停止向油冷器供冷卻劑。

氨合成塔阻力降應(yīng)控制在100KPa以內(nèi)。

換熱式轉(zhuǎn)化爐反應(yīng)所需熱量來自加熱爐和二段爐的高溫氣體。