A.牙體切割后,暴露的牙體遇冷熱刺激
B.牙體切割后,未采取保護(hù)措施
C.粘固時(shí),消毒藥物刺激
D.粘固時(shí),粘固劑中游離酸刺激
E.粘固劑過期變質(zhì)
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A.嵌塞食物壓迫
B.修復(fù)體軸壁突度不良
C.咬合力過大
D.冠邊緣過長
E.冠邊緣形成懸突
應(yīng)及時(shí)阻斷和矯治口腔的不良習(xí)慣,否則錯(cuò)頜發(fā)生的可能性和嚴(yán)重程度就越來越大。
矯治咬上唇的不良習(xí)慣,通常采用的方法是()。A.舌屏矯治器
B.腭網(wǎng)矯治器
C.上頜唇擋絲矯治器
D.頰屏矯治器
E.下唇擋矯治器
A.上牙弓縮窄,下頜向下后旋轉(zhuǎn)
B.下頜過度前伸,造成對刃或反頜
C.妨礙上牙弓前段的發(fā)育,形成前牙反頜
D.妨礙牙弓寬度的發(fā)育,造成上下牙弓狹窄或開頜
E.造成局部小開頜
患者第一磨牙大面積齲壞,經(jīng)牙體治療后建議全冠保護(hù)。查體:鄰牙情況良好,對頜牙咬合關(guān)系正常。設(shè)計(jì)鑄造全冠。
全冠用滴蠟法恢復(fù)頜面形態(tài)時(shí),常分為()。A.3步
B.4步
C.5步
D.6步
E.7步
患者第一磨牙大面積齲壞,經(jīng)牙體治療后建議全冠保護(hù)。查體:鄰牙情況良好,對頜牙咬合關(guān)系正常。設(shè)計(jì)鑄造全冠。
全冠軸面熔模制作時(shí),下頜磨牙頰舌側(cè)最突點(diǎn)在()。A.頰側(cè)在頸1/3處,舌側(cè)在頜1/3處
B.頰側(cè)在中1/3處,舌側(cè)在頜1/3處
C.頰側(cè)在頜1/3處,舌側(cè)在中1/3處
D.頰側(cè)在頸1/3處,舌側(cè)在中1/3處
E.頰側(cè)在中1/3處,舌側(cè)在頸1/3處
最新試題
全冠熔模要求建立正常的軸面突度,與其目的無關(guān)的是()。
上頜后堤區(qū)最窄的部分是()。
鑄件研磨、拋光中應(yīng)遵循的原則是()。
非貴金屬基底冠的厚度應(yīng)不低于()。
全冠用滴蠟法恢復(fù)頜面形態(tài)時(shí),常分為()。
復(fù)雜洞嵌體熔模制作的最好方法是()。
機(jī)器調(diào)拌石膏時(shí),在真空狀態(tài)下的攪拌時(shí)間應(yīng)為()。
全冠軸面熔模制作時(shí),下頜磨牙頰舌側(cè)最突點(diǎn)在()。
在頜托上標(biāo)記口角線時(shí),上下唇應(yīng)當(dāng)()。
患者固定義齒戴用3個(gè)月后,修復(fù)體齦緣處齦組織充血,水腫疼痛,易出血。主要原因不包括()。