JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：檢測(cè)后加熱至600℃以上進(jìn)行熱處理的工件，一般可不進(jìn)行退磁。

濕法用磁粉粒度一般比干法小。

根據(jù)JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，磁粉檢測(cè)前的工件表面準(zhǔn)備包括打磨表面、安裝接觸墊、封堵盲孔和涂敷反差增強(qiáng)劑。

用連續(xù)法檢測(cè)時(shí)，檢測(cè)靈敏度幾乎不受被檢工件材質(zhì)的影響，僅與被檢工件表面磁場(chǎng)強(qiáng)度有關(guān)。

熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，磁痕的評(píng)定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行，暗室或暗處可見(jiàn)光照度應(yīng)不小于20Lx。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：采用軸向通電法和觸頭法磁化時(shí)，為了防止電弧燒傷工件表面，應(yīng)將工件和電極接觸部分清除干凈或在電極上安裝非導(dǎo)電物質(zhì)。

磁粉檢測(cè)—橡膠鑄型法是采用連續(xù)法檢測(cè)。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：大型工件可使用交流電磁軛進(jìn)行局部退磁或采用纏繞電纜線圈分段退磁。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時(shí)，按一條磁痕處理，其長(zhǎng)度為兩條磁痕之和加間距。